MATCH Act: Neues US-Gesetz bedroht Chinas Halbleiter-Ambitionen massiv

Eine neue gesetzgeberische Bedrohung für die chinesische Halbleiterindustrie nimmt Gestalt an. US-Gesetzgeber treiben den Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH) Act voran – ein Gesetzentwurf, den Analysten von Bernstein als „weitaus strenger" als alle bisherigen Exportbeschränkungen einstufen. Das Gesetz könnte Chinas Fähigkeiten zur Herstellung fortschrittlicher Chips effektiv einfrieren und gleichzeitig die Wartung bestehender Produktionsanlagen nahezu unmöglich machen.

Im Kern sieht der MATCH Act ein absolutes, landesweites Verbot für den Verkauf von Immersions-Lithographiesystemen im tiefen Ultraviolettbereich (DUV) an China vor. Betroffen wären konkret die ASML NXT-Serie sowie Nikon-Systeme (NSR-S631E) und kryogene Ätzwerkzeuge. Anders als frühere Maßnahmen, die noch gewisse Lizenzierungsmöglichkeiten offenließen, zielt der MATCH Act darauf ab, diese verbleibenden Kanäle vollständig zu schließen.

Verbündete unter Zugzwang: 150-Tage-Frist für Niederlande und Japan

Besonders weitreichend ist der Mechanismus, mit dem der MATCH Act verbündete Staaten in die Pflicht nehmen will. Das Gesetz nutzt die sogenannte Foreign Direct Product Rule (FDPR) und schafft damit eine rechtlich bindende Verpflichtung für verbündete Regierungen – insbesondere die Niederlande und Japan – ihre Exportkontrollen innerhalb von 150 Tagen an die US-Standards anzupassen. Damit ersetzt der MATCH Act den bisherigen diplomatischen Druck durch eine strikte gesetzliche Frist. Ziel ist es, die Lücken bei der „inkonsequenten Einhaltung" zu schließen, die über verschiedene Gerichtsbarkeiten hinweg fortbestanden haben.

Fünf chinesische Unternehmen werden im Gesetzestext explizit als sogenannte „Covered Facilities" – also betroffene Einrichtungen – benannt: SMIC, CXMT, YMTC, Hua Hong und Huawei. Da diese Firmen direkt im Gesetz aufgeführt sind, werden ihre Beschränkungen vom Kongress festgelegt und unterliegen nicht dem administrativen Ermessensspielraum des Bureau of Industry and Security (BIS). Das entzieht der Exekutive die Möglichkeit, im Einzelfall Ausnahmen zu gewähren.

Drastische Sekundärbeschränkungen für betroffene Unternehmen

Für die fünf genannten Unternehmen sieht der MATCH Act besonders harte Sekundärbeschränkungen vor:

Wartungsverbot:

Ingenieuren der Anbieter ist es untersagt, bereits in chinesischen Fabriken installierte Werkzeuge zu warten oder zu reparieren. -

Verbot für US-Personal:

US-Personen, einschließlich Ingenieuren und Spezialisten, ist es weltweit verboten, diese Unternehmen in irgendeiner Form zu unterstützen. -

Pauschale Ablehnungen:

Das Gesetz schreibt eine Politik der „Nicht-Antragstellung" vor – Einzelfallprüfungen oder Ausnahmen entfallen vollständig.

Diese Kombination aus Lieferstopp und Wartungsverbot könnte die betroffenen chinesischen Chipfabriken mittelfristig erheblich in ihrer Leistungsfähigkeit einschränken, da hochkomplexe Halbleiteranlagen regelmäßige Wartung durch spezialisiertes Herstellerpersonal benötigen.

Chinas 30-Milliarden-Dollar-Investition und die Grenzen der Eigenständigkeit

China hat zuletzt mit einer Investitionsoffensive in Höhe von 30 Milliarden US-Dollar in Lithographie-Werkzeuge reagiert, die den Kapazitätsausbau bis 2027 stützen soll. Doch Analysten warnen: Selbst mit diesen Mitteln würde der MATCH Act künftiges Wachstum voraussichtlich auf ausgereifte 65/55-Nanometer-Nodes beschränken – weit entfernt von den modernsten Chips, die weltweit gefertigt werden.

Gleichzeitig räumen Analysten ein, dass solche Maßnahmen zwar oft „Panik" und potenzielle Vergeltungsmaßnahmen aus Peking auslösen, aber auch Chinas Übergang zu heimischen Lithographie-Werkzeugen beschleunigen könnten – wenn auch um den Preis geringerer Produktionsausbeuten. Für deutsche Anleger, die in Halbleiterunternehmen wie ASML investiert sind, bleibt die weitere Entwicklung des Gesetzgebungsverfahrens in Washington daher ein wichtiger Faktor für die Einschätzung künftiger Absatzmärkte.